1.电子束电流范围：1 pA - 400 nA； 2.电子束电压：200eV-30 keV，具有减速模式 3.电子束分辨率：0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) 4.大束流Sidewinder离子镜筒； 5.离子束加速电压500V-30kV（分辨率：3.0 nm）； 6.离子束束流1.5pA-65nA，15孔光阑；

配置情况： 1.GIS气体注入：Pt沉积 2.Easylift纳米机械手（精度<500nm） 3.ETD SE、T1（筒内低位）、T（高位）探头 4.Nav-camTM：样品室内光学导航相机 5.AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件 适用样品： 半导体、金属、陶瓷材料截面加工及透射样品制备

1. 尺寸：110mm直径以内；普通样品托为直径12mm、35mm不等，厚度不超过80mm； 2. 导电：对于不能够导电的样品可以喷金、喷碳处理； 3.磁性： 电磁铁吸引不起来为准，块体磁性样尺寸不能超过1cm见方；磁性粉末要牢固粘好，在洗耳球下吹不掉   ；                                                                            

FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级，更加适用于金属、复合材料和涂层，特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度，大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式，可以设定程序，降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台；